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CE-600、800自動清洗機是專門用于晶圓、QFN、玻璃、基板、手機模組和陶瓷等切割后的清洗設備。此系列為二流體清洗方案，采用可編輯控制器＋全彩色觸摸屏為操作系統(tǒng)，令設備性能更加穩(wěn)定、操作便捷。采用特殊內部結構設計能均勻混合，產生細微液滴尺寸的噴霧或粗液滴噴霧。

PCE-6小型等離子清洗機的等離子腔體為 Ø160mm×190mm的石英腔體，采用的射頻電源功率為3.0MHz（1%），輸出功率7.2W、10.2W、29.6W三檔可調。本機主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質（如親水和疏水性等），對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設備。

產品簡介：轉瓶等離子清洗機，專為處理顆粒、粉末樣品而設計。在等離子體作用下，一些材料很容易發(fā)生斷鍵和聚合，轉瓶等離子清洗機可以高效率的處理微細的甚至分子級別的超細粉末材料，改變了傳統(tǒng)真空等離子清洗機無法處理顆粒、粉末樣品的問題。該機同樣也可以處理非粉末的樣品，實現(xiàn)了一機多用的功能。

GSL-1100X-PJF-A等離子表面處理儀是一款緊湊的大氣離子表面處理噴射系統(tǒng)，主要由射頻發(fā)生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件的環(huán)境下活化和清理材料（如單晶片、光學元件、塑料等）表面雜質，且清理速度迅速。本機是為獲得高質量的外延薄膜或光學涂層進行預先表面處理的合適的工具選擇。具有一個樣品臺，將樣品固定在樣品臺上后可進行X

VTC-200-CE半柜式清洗機采用直線導軌控制柱狀液流沿 wafer.半徑方向來回掃動,同時配備有去離子水淸洗和氮氣吹干功能,采用高精度伺服電機控制 wafer的旋轉,由七寸全彩觸屏進行操作，全不銹鋼機柜,耐魔蝕透明觀察蓋,絲桿直線導軌,不銹鋼內腔,設計合理,經久耐用。伺服馬達控制旋轉速度和時間,自動控制顯影、清洗和吹干,顯影/清洗均勻性和重復性好。

PCE-22-LD紫外臭氧清洗機采用不需要任何溶劑的干式清洗技術，對清洗表面沒有損傷。采用大功率低壓石英汞燈，產生波長185nm和254nm的紫外線，185nm的光可以將氧分子O2轉變成活性的臭氧分子O3，254nm的光同時激發(fā)清洗表面的有機分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時間短，且同時也被254nm的光分解，因此可調節(jié)樣品臺到燈管的距離來優(yōu)化性能。