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蒸發(fā)鍍膜儀的真空腔室為蒸發(fā)過(guò)程提供必要的真空環(huán)境，以確保膜材料的粒子能夠在沒(méi)有空氣干擾的情況下飛至基片表面；真空抽氣泵組用于抽出腔室內(nèi)的氣體，保持高真空狀態(tài)，這對(duì)于蒸發(fā)過(guò)程至關(guān)重要；基片及基片架用于固定和支撐待鍍膜的基片，確保膜材料能夠均勻地沉積在基片上。監(jiān)測(cè)裝置用于實(shí)時(shí)監(jiān)控鍍膜過(guò)程中的各種參數(shù)，如膜厚、速率等，以保證鍍膜質(zhì)量；水冷系統(tǒng)用于冷卻腔室內(nèi)的某些部件，防止在高溫蒸發(fā)過(guò)程中過(guò)熱，保護(hù)設(shè)備的穩(wěn)定性和使用壽命；它負(fù)責(zé)加熱膜材料并使其蒸發(fā)氣化。蒸發(fā)源的設(shè)計(jì)和加熱方式直接影響...

蒸發(fā)鍍膜儀是利用物理或化學(xué)方法將材料從固體或液體狀態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)，然后在真空環(huán)境中沉積到基片上形成薄膜的設(shè)備。這種技術(shù)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、電子、磁性材料等領(lǐng)域，用于制備各種功能薄膜。蒸發(fā)鍍膜儀的原理主要包括以下幾個(gè)方面：1.真空原理：工作需要在高真空環(huán)境下進(jìn)行，以減少氣體分子對(duì)蒸發(fā)材料的阻礙和對(duì)薄膜質(zhì)量的影響。真空環(huán)境可以通過(guò)機(jī)械泵、分子泵等設(shè)備實(shí)現(xiàn)。在真空條件下，氣體分子的數(shù)量大大減少，有利于材料的蒸發(fā)和薄膜的生長(zhǎng)。2.蒸發(fā)原理：蒸發(fā)是指物質(zhì)從液態(tài)或固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)的過(guò)程。...

金相拋光機(jī)是一種用于金屬材料表面制備的專業(yè)儀器，主要用于金屬材料檢測(cè)、研究和分析等方面。它可以通過(guò)旋轉(zhuǎn)砂輪和帶有磨料的拋光液將金屬材料表面磨光，去除其表面粗糙度和劃痕，使其表面平整度更高，從而更方便進(jìn)行觀察和分析。結(jié)構(gòu)特征概述拋光機(jī)由底座、拋盤、拋光織物、拋光罩及蓋等基本元件組成。電動(dòng)機(jī)固定在底座上，固定拋光盤用的錐套通過(guò)螺釘與電動(dòng)機(jī)軸相連。拋光織物通過(guò)套圈緊固在拋光盤上，電動(dòng)機(jī)通過(guò)底座上的開(kāi)關(guān)接通電源起動(dòng)后，便可用手對(duì)試樣施加壓力在轉(zhuǎn)動(dòng)的拋光盤上進(jìn)行拋光。拋光過(guò)程中加入的拋...

在材料科學(xué)、半導(dǎo)體制造、光學(xué)器件和生物器械等領(lǐng)域，旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)以其涂覆技術(shù)和高精度控制，成為了不可少的工藝設(shè)備?；陔x心力作用和精密控制。當(dāng)機(jī)器啟動(dòng)時(shí)，基片(通常為平坦且光滑的目標(biāo)表面)開(kāi)始高速旋轉(zhuǎn)。同時(shí)，在基片的中心位置滴加各類膠體或溶液。由于離心力的作用，膠體或溶液在基片上均勻展開(kāi)，形成一層薄膜。這一過(guò)程中，通過(guò)調(diào)整旋轉(zhuǎn)速度、膠體或溶液的粘稠度以及旋涂時(shí)間等參數(shù)，可以控制涂層的厚度和均勻性。旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)的主要特點(diǎn)：高精度控制：通過(guò)控制系統(tǒng)和傳感器技術(shù)，實(shí)現(xiàn)對(duì)旋轉(zhuǎn)速度、膠體或溶...

冷等靜壓機(jī)在現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中起到了重要的作用。通過(guò)微米級(jí)的高精度操作，它可以制造出各種高精度金屬鑄件、紡織品以及復(fù)合材料等高品質(zhì)產(chǎn)品。隨著科技的不斷進(jìn)步，冷等靜壓機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域?qū)?huì)越來(lái)越廣泛。冷等靜壓機(jī)是一種工業(yè)生產(chǎn)中常用的壓縮機(jī)，它是通過(guò)壓縮機(jī)的工作原理，將氣體壓縮成高溫高壓的狀態(tài)，再通過(guò)冷卻系統(tǒng)使之冷卻，達(dá)到制冷或低溫的效果的一種設(shè)備。冷等靜壓機(jī)是將裝入密封、彈性模具中的物料，置于盛裝液體或氣體的容器中，用液體或氣體對(duì)其施加以一定的壓力，將物料壓制成實(shí)體，得到原始形狀的坯體。...

1、新鮮硬組織取材固定(以牙齒為例):根據(jù)材料尺寸/性質(zhì),通過(guò)切割機(jī)獲得所需樣本,再使用4%多聚甲醛或10%福爾馬林溶液固定至少24小時(shí);2、脫水浸潤(rùn):酒精上行脫水:無(wú)水乙醇:7200=1:1;無(wú)水乙醇:7200=3:7;7200原液I、II;3、樣本包埋光聚合法包埋:7200原液+固體包埋顆粒(12小時(shí));配合真空冷鑲嵌機(jī)進(jìn)行抽真空,放置模具自動(dòng)灌膠,去除氣泡,修復(fù)包埋樣本CXQ-2500真空冷鑲嵌機(jī)4、粘接樣本塊至載玻片采用T4000樹(shù)脂粘接,并注意液體比例,配合壓合臺(tái)確...

大家好，本期我們?yōu)榇蠹規(guī)?lái)的是「陶瓷基板的異形切割」，敬請(qǐng)觀看！▼/前情提要/本期沈陽(yáng)科晶小課堂為您講解陶瓷基板的異形切割！使用設(shè)備：STX-100QX金剛石曲線切割機(jī)▼/點(diǎn)擊觀看視頻/▼/小結(jié)/氧化鋁陶瓷基板切割取圓（直徑10/12.7mm），可編輯任意圖形，并可通過(guò)樣品疊層的方式大幅提高加工效率，同時(shí)滿足科研和生產(chǎn)兩大要求，歡迎各位客戶蒞臨或郵寄樣品到科晶實(shí)驗(yàn)室體驗(yàn)測(cè)試！歡迎后臺(tái)區(qū)留言！

/前情提要/本期科晶小課堂為您講解冷等靜壓機(jī)粉末成型使用設(shè)備：CIP-50MA電動(dòng)冷等靜壓機(jī)/點(diǎn)擊觀看視頻//小結(jié)/我公司有多種尺寸的壓片機(jī)以及冷等靜壓機(jī)，歡迎各位客戶蒞臨或郵寄樣品到科晶實(shí)驗(yàn)室體驗(yàn)測(cè)試！歡迎后臺(tái)區(qū)留言！沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司于2000年5月創(chuàng)建。自第一臺(tái)SYJ-150低速金剛石切割機(jī)誕生以來(lái)，沈陽(yáng)科晶便開(kāi)始了以趕超國(guó)外同行、材料分析設(shè)備潮流為目標(biāo)的發(fā)展歷程。時(shí)至今日，已經(jīng)擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結(jié)、分析等領(lǐng)域以及相關(guān)耗材的...

實(shí)驗(yàn)設(shè)備：MSK-AFA-I流延涂覆機(jī)、ZKC-250真空樣品貯存器、DZF-6020真空干燥箱MSK-AFA-I流延涂覆機(jī)ZKC-250真空樣品儲(chǔ)藏罐D(zhuǎn)ZF-6020真空干燥箱圖1實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備圖實(shí)驗(yàn)材料：液態(tài)硅膠、銅箔實(shí)驗(yàn)?zāi)康模菏褂昧餮油扛矙C(jī)將液態(tài)硅膠均勻涂覆在銅箔表面，用真空干燥箱在90℃的環(huán)境下將薄膜烘干，而后使用數(shù)顯千分尺測(cè)量烘干后薄膜的厚度和均勻性。實(shí)驗(yàn)過(guò)程：①原料混合：首先，將液態(tài)硅膠原料按1:1的比例混合好，混合后的液態(tài)硅膠內(nèi)充滿氣泡，將充滿氣泡的液態(tài)硅膠放入到...

【科晶小課堂】電弧熔煉爐制備鈦鋁合金/前情提要/本期科晶小課堂為您講解用電弧熔煉爐制備鈦鋁合金！實(shí)驗(yàn)材料：鈦、鋁使用設(shè)備：MSM20-7(非自耗)電弧熔煉爐/點(diǎn)擊觀看視頻//小結(jié)/MSM20-7(非自耗)電弧熔煉爐制備鈦鋁合金錠可定制不同尺寸、形狀坩堝，最大約200g（鈦)；并可選配吸鑄套件（直徑1～10mm）；真空封管套件（直徑5～30mm）；歡迎各位客戶蒞臨或郵寄樣品到科晶實(shí)驗(yàn)室體驗(yàn)測(cè)試！歡迎后臺(tái)區(qū)留言！/相關(guān)設(shè)備點(diǎn)擊查看/MSM20-7(非自耗)電弧熔煉爐SP-MSM3...

背散射電子衍射（EBSD）只發(fā)生在試樣表層幾十個(gè)納米的深度范圍,所以試樣表面的殘余應(yīng)變層(或稱變形層、擾亂層)、氧化膜以及腐蝕坑等缺陷都會(huì)影響甚至*抑制EBSD的發(fā)生,因此試樣表面的制備質(zhì)量很大程度上決定著EBSD測(cè)試結(jié)果的質(zhì)量。與一般的金相試樣相比，一個(gè)合格的EBSD樣品，要求試樣表面無(wú)應(yīng)力層、無(wú)氧化層、無(wú)連續(xù)的腐蝕坑、表面起伏不能過(guò)大、表面清潔無(wú)污染。EBSD試樣的典型尺寸是10mm×10mm到7mm×7mm之間,厚度不宜過(guò)厚，一般在1-3mm之間?？筛鶕?jù)實(shí)際情況，如銅鋅...

實(shí)驗(yàn)材料：尺寸為21×21㎜的陶瓷基片，基片形貌如圖1所示；該種陶瓷基片有一定的硬度，可用真空吸附的方式進(jìn)行固定。薄膜材料為用有機(jī)溶膠調(diào)和的具有一定粘度和流動(dòng)性的金屬粉末。圖1實(shí)驗(yàn)所用基片圖實(shí)驗(yàn)?zāi)康模簩⒔饘俜勰┠z溶劑均勻涂敷到陶瓷片表面。實(shí)驗(yàn)設(shè)備：由沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司制造的VTC-100真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)和PCE-6等離子清洗機(jī)。圖2實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備圖實(shí)驗(yàn)設(shè)備選用原因：VTC-100真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)操作簡(jiǎn)單、清理方便，體積小巧。設(shè)備標(biāo)配3個(gè)不同大小的真空吸盤，可根據(jù)樣品尺寸不同...