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VTC-200-4P噴霧旋轉(zhuǎn)涂覆機(jī),勻膠機(jī)、顯影機(jī)、甩膠機(jī)、旋涂儀、spin coater主要用于半導(dǎo)體工藝、制版工藝過程中圖形的顯影及表面涂覆工藝，是一款上蓋可以加熱的勻膠機(jī)、顯影機(jī)，在勻膠或顯影過程結(jié)束后使用加熱功能使膠體薄膜中的溶劑繼續(xù)蒸發(fā)到含量低。工作過程中顯影液或膠體以霧狀噴到樣片上，使溶液在樣片表面均勻分布，有利于薄膜和顯影過程的順利進(jìn)行。本機(jī)電機(jī)部分、溫度控制部分、注液部分

VTC-200PV真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)適用于半導(dǎo)體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機(jī)可用于強(qiáng)酸、強(qiáng)堿性涂覆溶液的涂膜制備。本機(jī)可以對涂膜機(jī)腔室進(jìn)行抽真空，使樣品在*真空的狀態(tài)下進(jìn)行涂膜，適用于在空氣中易氧化變質(zhì)的薄膜材料的使用。工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設(shè)備可儲存12組程序，每組程序包含6個運(yùn)行階段。不同運(yùn)行階段設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)不同，使設(shè)備緩慢提升速

VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優(yōu)點(diǎn)，主要應(yīng)用于各大專院校、科研院所的實驗室中進(jìn)行薄膜的生成過程。工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設(shè)備利用兩段程序控制速度。首先開動涂膜機(jī)將設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)設(shè)置在一定的轉(zhuǎn)數(shù)范圍內(nèi)，在此轉(zhuǎn)數(shù)范圍內(nèi)設(shè)置一定的注膠時間對樣品進(jìn)行注膠，注膠結(jié)束后涂膜機(jī)會提升轉(zhuǎn)數(shù)至第二段的極限轉(zhuǎn)數(shù)進(jìn)行勻膠，在勻膠之前要對勻膠