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VTC-50A旋轉涂膜機供電系統(tǒng)采用了電機部分與控制部分分別使用獨立電源的方式，調速系統(tǒng)則采用了抗干擾性高的單片機進行控制，使得轉數在高達1000-8000RPM范圍內都非常穩(wěn)定。本機啟動快速、轉數穩(wěn)定，可以保證膜層厚度的均勻性與*性。此外，在安裝結構上，采取了減震措施，使得運轉時噪音很低。該設備操作簡單、清理方便，體積小巧，因此該設備被廣泛應用于各大專院校及科研院所當中。

VTC-100真空旋轉涂膜機具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優(yōu)點，主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。設備標配3個不同大小的真空吸盤，可根據樣品尺寸不同選擇不同的真空吸盤。工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設備利用兩段程序控制速度。首先開動涂膜機將設備轉數設置在一定的轉數范圍內，在此轉數范圍內設置一定的注膠時間對樣品進行注膠，注

VTC-200真空旋轉涂膜機/勻膠機主要應用于大專院校、科研院所的實驗室中的薄膜形成。本機利用高速旋轉使粘滯系數較大的膠體、溶液等材料均勻地涂覆在樣件表面。

VTC-200P真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。VTC-200P真空旋轉涂膜機腔體不可抽真空，工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設備可儲存12組程序，每組程序包含6個運行階段。不同運行階段設備轉數不同，使設備緩慢提升速度*限速度，有利于薄膜材料在樣品表面均勻成膜，且不會過多浪費，節(jié)約材料。腔室的上蓋可以對樣品進

VTC-100PA真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。設備標配兩個不同大小的真空吸盤，可根據樣品尺寸不同選擇不同的真空吸盤。工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設備可儲存12組程序，每組程序包含6個運行階段。不同運行階段設備轉數不同，使設備緩慢提升速度*限速度，有利于薄膜材料在樣品表面

微型吸盤與VTC-100配用，是針對微小樣片的固定而設計。選用優(yōu)質塑膠制作而成，具有操作方便，吸附穩(wěn)定的優(yōu)點。